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従来、ppmｵｰﾀﾞｰの粉体の減率乾燥は、主にNPD（ﾊﾟﾄﾞﾙﾄﾞﾗｲﾔｰ）及びNFP（ﾏﾙﾁﾌｨﾝﾌﾟﾛｾｯｻｰ）等の溝型撹拌伝導伝熱式乾燥機を直列に配置し、予備乾燥、本乾燥を段階的に処理するﾌﾟﾛｾｽで行ってきました。しかし、これらの溝型撹拌伝導伝熱式乾燥機は構造が複雑で、ｸﾞﾚｰﾄﾞﾁｪﾝｼﾞや洗浄に時間を要する、あるいは付着等の機内状況によっては、困難であるというﾃﾞﾒﾘｯﾄがあります。

今回紹介する充填層式乾燥機NTD（奈良ﾀﾜｰﾄﾞﾗｲﾔｰ）は、構造が簡単なため洗浄性に優れｸﾞﾚｰﾄﾞﾁｪﾝｼﾞが容易であるという、溝型撹拌伝導伝熱式乾燥機のﾃﾞﾒﾘｯﾄを克服し、減率乾燥に特化した乾燥機となります。NTDは従来、PETやPOM等の処理品粒径が3〜5mm程度のﾍﾟﾚｯﾄ形状をしたものに対し実績がありましたが、これを粉体に対しても適用できるよう開発を行ってきました。

NTDの構造は、円筒縦型で下部がｺﾆｶﾙ形状となっており、円筒内部にはﾌｧﾝﾈﾙﾌﾛｰ防止のための内筒が設置されています。NTD内部への熱風の流入は、ｺﾆｶﾙ部に設置された多孔板よりｶﾞｽを分散させ均一に充填粉体とｶﾞｽを固気接触させる機構となっています。粉体の充填は、内筒管上部の円錐部頂点を中心に粉体を供給すると、円錐部が分散子の役割を果たすため装置内に均一に充填されます。

装置性能を表す指標のひとつに滞留時間分布があります。これは、ある時間（t=t0）に供給した粉体が、設定した滞留時間θに対し、どの程度の時間幅で排出されるかを表したものです。この分布幅が小さいほど、ほぼ設定した滞留時間で装置内を通過したことになり、一つ一つの粒子が装置内で同じ処理をされたことになります。NTDの滞留時間分布は±0.1θとなり、NPD（±0.5θ）や流動層乾燥機FBD（±0.7θ）に比べ非常にｼｬｰﾌﾟなため、より安定した品質で処理を行うことが可能です。

このように、奈良機械製作所では業界のﾆｰｽﾞに対応しさまざまな装置の改良開発を行っています。